如果说半导体是整个信息产业的皇冠的话，那么光刻机就是皇冠上那颗最璀璨的钻石，没有光刻机，就没有如今蓬勃发展的半导体产业。日前，光刻机主要供应商之一的佳能，举办了首台日本产光刻机诞生50周年纪念活动，佳能光学设备（上海）有限公司董事长兼总经理牧野晶、佳能光学设备（上海）有限公司副总经理五十岚文生及佳能光学设备（上海）有限公司销售二部销售二处处长毛小敏出席了此次纪念发布会。半导体器件被广泛应用于从智能手机到汽车等各个领域，在其制造过程中半导体光刻机必不可少。随着数字技术的迅速发展，佳能的半导体光刻机也在不断升级。

回顾佳能光刻机发展历程佳能光刻机的历史始于对相机镜头技术的高度应用。灵活运用20世纪60年代中期在相机镜头开发中积累的技术，佳能研发出了用于光掩膜制造的高分辨率镜头。此后，为了进一步扩大业务范围，佳能开始了半导体光刻机的研发，并于1970年成功发售日本首台半导体光刻机「PPC-1」，正式进入半导体光刻机领域。根据五十岚文生介绍，PPC就是Projection Printer Camera的缩写，之前并没有lithography的说法。50年来，佳能光刻机业务取得了众多里程碑式的进展。佳能于1975年发售的「FPA-141F」光刻机在世界上首次实现了1微米以下的曝光，此项技术作为“重要科学技术历史资料（未来技术遗产）”，于2010年被日本国立科学博物馆产业技术历史资料信息中心收录。目前佳能的光刻机阵容包括i线光刻机和KrF光刻机产品线，并根据时代的需求在不断扩大应用范围，这也都是随着线宽需求不断改进。2001年，佳能推出12英寸的光刻设备，今后，佳能将继续扩充半导体光刻机的产品阵容和可选功能，以支持各种尺寸和材料的晶圆以及下一代封装工艺。此外，在尖端领域为满足电路图案进一步微细化的需求，佳能也在致力于推进纳米压印半导体制造设备的研发,并使之能应用于大规模生产，2017年成功推出。除了半导体领域，自1986年起，佳能将半导体光刻机技术应用于平板显示器制造领域，开始开发、制造和销售平板显示曝光设备。2018年，佳能推出适用于第八代面板的光刻设备。今后佳能也将继续致力于提高清晰度和生产效率，以满足液晶和OLED显示设备制造的需求。截至目前，佳能已累计出货5600余台光刻设备，覆盖众多领域，尤其是在步进光刻机细分市场，佳能有超过80%的市场份额，受到了中国客户的喜爱。光刻机如何超越摩尔定律如今，似乎光刻机已成为组织摩尔定律前进的主要障碍之一，五十岚文生表示，目前佳能的技术演进路线分为两方面，一方面是继续追随摩尔定律，不断在高端制程上开发，另外则是在多样化方向发展。五十岚文生说道，物联网对半导体需求多样化，除了CPU，传感器，电源控制类器件需求不断增加，所以佳能也在针对各细分市场推出不同的产品组合。“我们是根据应用特殊的要求，细分开发各种不同设备，比如包括存储/逻辑，摄像头/传感器，IoT/汽车/射频/电源以及后道，佳能都进行了产品细分。”五十岚文生说。目前针对第三代半导体，由于尺寸限制，因此佳能改造了90年代的8寸设备，推出了对应的3030产品，适合非硅基板的应用。五十岚文生指出，同样的事情也发生在液晶市场，佳能也不断推出各类细分新品，满足电视等大屏幕的需求，同时也满足手机等对于分辨率的要求，以及未来包括OLED等新兴市场的应用。和中国半导体产业共成长牧野晶表示，随着中国对半导体产业的重视，对半导体设备和材料的需求不断增加，对佳能来说，是个非常有魅力的市场。目前，佳能光刻机在日本生产，但是在中国拥有众多办事处，为得就是提供更好的服务，从而更贴近客户，据介绍佳能所有半导体光刻设备都可以面向中国客户销售，不存在限售令等。牧野晶说道，中国目前的市场需求呈现着多元化，发展潜力极大，如何满足中国客户的需求，是未来事业成败的关键。“我们会认真倾听客户的要求，和总部研发紧密合作，尽量从佳能角度为客户提出解决办法。截至目前，中国市场的新需求佳能都可以满足。”目前，佳能光刻机在华销售情况，在半导体设备市场是中资企业和外资企业各50%，在液晶面板领域，中资厂商占比达到了70%以上，这也是佳能深耕中国，与中国本土客户共发展的最好体现。牧野晶表示，相信中国政府对发展半导体产业的决心与信心，也相信中国设计业的能力，但面对集成电路的飞速发展，人才储备有可能成为中国半导体未来面临的重大问题。牧野晶说道，2019年半导体市场确实有所下滑，佳能光刻机的销售额也产生了下滑，但是从未来长远来看，形式依然非常乐观。对此，佳能将努力提供最优质的服务，帮客户最大化价值，今后将继续提升光刻设备技术，为社会发展做出贡献。